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　編者按：紫外非線性光學晶體材料是重要的光電信息功能材料，在信息、能源、工業制造、醫學、科研等領域具有廣泛的應用前景。多年來設計、合成性能優異的新型紫外非線性光學晶體材料一直是新型功能材料領域的研究熱點。

　　鈹硼酸鹽被廣泛看作紫外/深紫外非線性光學材料的理想選擇，近年來，許多性能優異的鈹硼酸鹽非線性光學晶體已經被合成，而BeO的劇毒性卻使得生長這些晶體十分困難。

中科院新疆理化技術研究所特殊環境功能材料與器件院重點實驗室研究員潘世烈帶領其團隊以KBBF為結構模型，使用ZnO4替代KBBF結構中的 BeO3F，并且采用反向排列的B3O6連接相鄰的Zn2BO3O2層，成功合成出Cs3Zn6B9O21化合物，該化合物克服了KBBF生長過程中強的 層狀習性和BeO的劇毒性，同時也是目前KBBF族中倍頻效應最大的化合物，并且該化合物紫外截止邊約為200nm，計算表明可見光區雙折射率大于 0.06，是一種潛在的紫外非線性光學材料。

該設計思路將有利于鈹硼酸鹽化合物的效應增強和其它具有類鈹硼酸結構的鋅硼酸鹽在紫外非線性光學材料的設計應用。

(來(lai)源(yuan)：中國化(hua)工儀器網)